特征参数：
● 150-350mw@355nm
● 80mhz重复频率 / 12ps脉宽
● 高光束质量m²<1.3
● 紧凑、密封、坚固的工业级操作平台确保了良好的光束性能和长期的功率稳定性。
应用：
● 半导体晶圆检查
● 细胞筛选
● 微加工
● 微型立体光刻
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商品图尺寸
product size diagram
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规格参数
specification parameter
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光束特性
项目
genius-150
genius-350
波长(nm)
355nm
功率
150mw
350mw
重复频率1(mhz)
80mhz±1mhz
脉宽2(ps)
＜12ps
光束质量
tem00(m2＜1.3)
平均功率稳定性3(rms)
＜2%
偏振度
＞100:1 水平
光斑圆度(%)
＞85%
光束指向性4(μrad/℃)
＜20μrad/℃
光斑尺寸5(mm)
~1mm
一般特性
电源输入
220 vac ±5% 50-60hz
能量损耗
＜1kw
冷却方式
闭路循环水冷
工作条件
温度 15-35℃ 湿度 ＜65%
加热时间(min)
＜40min
